亞矽創新研發中心

本案土地將分三期開發,以靠近A19站側為第一期開發區,佔總面積約1/3,興建面積第一期總樓地板面積約23,531坪,先期規劃為裙樓基座雙星造型建築,分18層樓研發中心棟及10層樓服務中心棟,其餘為第二、三期開發區,將視第一期開發區發展情形,再逐步開發。第一期開發時程:規劃興建時程為民國109年〜113年,已於109年5月啟動工程專案管理計畫(PCM),預計109年7月進行統包工程公開閱覽,進行統包工程招標程序。預計110年正式動工。

圖1「亞洲·矽谷創新研發中心」開發分期圖

圖2「亞洲.矽谷創新研發中心」建築模擬圖